作者 陈怀临 | 2011-02-14 21:28 | 类型 芯片技术, 行业动感 | 2条用户评论 »
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“弯曲评论荣誉推荐:Intel Westmere-EP评测”有2个回复
Intel 32nm工艺提供了112.5nm的晶体管金属栅极宽度,是已知相同制造工艺中的最尖端水平。
~~~~~~~~~~~~能否解释一下112.5nm的晶体管金属栅极宽度是神马含义?
Oops……一个大误会,应该是112.5nm的晶体管门间距,感谢楼上的鞭笞
Intel 32nm工艺提供了112.5nm的晶体管金属栅极宽度,是已知相同制造工艺中的最尖端水平。
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Oops……一个大误会,应该是112.5nm的晶体管门间距,感谢楼上的鞭笞