弯曲评论荣誉推荐：Intel Westmere-EP评测

作者 | 2011-02-14 21:28 | 类型 芯片技术, 行业动感 | 2条用户评论 »

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雁过留声

“弯曲评论荣誉推荐：Intel Westmere-EP评测”有2个回复

  1. Mansfield 于 2011-02-15 6:00 下午

    Intel 32nm工艺提供了112.5nm的晶体管金属栅极宽度，是已知相同制造工艺中的最尖端水平。

    ~~~~~~~~~~~~能否解释一下112.5nm的晶体管金属栅极宽度是神马含义？

  2. Lucifer 于 2011-02-16 7:08 上午

    Oops……一个大误会，应该是112.5nm的晶体管门间距，感谢楼上的鞭笞